試驗(yàn)機(jī)又名試驗(yàn)檢測設(shè)備，以下內(nèi)容是我公司針對試驗(yàn)機(jī)檢測過程的結(jié)果所做的講解。

1. 短裂紋

2. 邊緣裂紋

3. 內(nèi)部裂紋

存在于一個(gè)小水晶體內(nèi)部的短裂紋(小于1mm)通常是比較直，而且有特定的走向。萬能試驗(yàn)機(jī)橫跨一個(gè)或多個(gè)水晶體長裂紋通常形狀不規(guī)則，由于外部造成的裂紋例如在晶體表面進(jìn)行沖擊而形成的裂紋經(jīng)常會(huì)有這種形狀。對數(shù)據(jù)進(jìn)行分析后，晶體邊緣的裂紋，即邊緣裂紋，和在晶體的整個(gè)內(nèi)部表面上的裂紋，這種裂紋不與邊緣接觸，即內(nèi)部裂紋，這兩種類型的裂紋之間有很大的區(qū)別。在1.5N以內(nèi)的壓力試驗(yàn)機(jī)中只有那些有可檢測到有微小裂紋的晶體斷裂。所有的斷裂后的晶片被重組到一起后與通過微小裂紋檢測時(shí)的圖像進(jìn)行對比。

Figure 2: 箭頭所指為來自晶片邊緣的不規(guī)則的長裂紋（~30mm）。

無一例外，裂痕會(huì)從檢測到的裂紋那繼續(xù)延伸。

當(dāng)裂紋是長裂紋時(shí)，斷裂力通常很低，晶片會(huì)碎成2-4個(gè)小的晶片。對于有小裂紋的晶片來說，拉力試驗(yàn)機(jī)施加在的力后，晶片會(huì)破碎成幾個(gè)大的或者很多小的碎片。

3：左邊：帶有13.5mm的內(nèi)部裂紋的晶片在壓力為1.49N時(shí)斷裂。

右邊：帶有24.8mm的邊緣裂紋的晶片在壓力為0.51N時(shí)斷裂。

斷裂延伸跟點(diǎn)陣紋理走向有關(guān)系，當(dāng)斷裂繼續(xù)延伸時(shí)，裂紋一般會(huì)在比較弱的點(diǎn)陣方向。裂紋通常垂直延伸。帶有邊緣裂紋的晶片在斷裂時(shí)所受的力一般比內(nèi)部裂紋晶片需力小。對于有鋸形痕跡的晶片來說，當(dāng)力達(dá)到1.5N時(shí)，不會(huì)斷裂，但是有些情況下斷裂會(huì)順著鋸痕延伸。

4. 結(jié)論：

通過實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)一些還有裂紋的晶片仍然能夠通過1.5N的彎曲試驗(yàn)。94%的有內(nèi)部裂紋（小于10mm）的原切割圓晶片能通過壓力試驗(yàn)。有邊緣裂紋的晶片都不能通過此次試驗(yàn)，即使此邊緣裂紋小于2mm。更多試驗(yàn)機(jī)資料盡在濟(jì)南恒思盛大儀器有限公司。